TDM-200膜层监控仪适用于高频溅射、直流溅射、电阻蒸发、离子束、电子束等镀膜应用场合，在线测量膜层的厚度，可用于批量生产，也可用于薄膜材料研究。本仪器具有高速高精度测量系统，可提高镀膜的质量和可重复性，具有精确稳定、易于操作、配置灵活的特点。还提供了监测和控制功能，您可通过液晶显示屏连续获取沉积速率、厚度和晶片频率；并可通过计算机记录数据并实时描绘厚度曲线和速率曲线。

▲ TDM-200型膜层控制仪采用全中文人机操作界面,方便您的编程和操作。

▲ 频率计算精度和显示分辨率达到0.1Hz，计算速率达到每秒四次，为您制备薄膜提供了有力支持。

▲提供了RS-232接口，您可对镀膜过程进行遥控。并可通过计算机实时描绘厚度曲线和速率曲线。

▲对于多层膜中的关键膜层，您可使用特定的挡板探头监测，大大提升产品成膜质量和精度。

▲可配合多源镀膜系统，并为您提供了256种材料参数供使用。

▲ 连续镀膜还设计了自动监控方式，简化您的操作。

▲ 19英寸标准机箱，备有适配电缆，易于安装至现有的装置中。

测量 频率计算精度 ±0.1Hz(在6.0MHz频率时) 频率显示精度 0.1Hz 测量速率 4Hz 　 显示 厚度显示 000000Å～999999Å 速率显示 000.0～999.9Å/s 时间显示 00:00:00～23:59:59（时:分:秒） 层数 01～99层 图形显示 240x64LCD，低功耗LED背光 　 存储能力 层 99层 材料库 256种材料参数 　 膜层参数 层 01～99 厚度 000000～999999 Å 材料 分子式（最长10个字符） 密度 00.00～99.99g/cm3 工具因子 00.00～99.99 Z因子 00.00～99.99 探头 A、B、C、D 探头挡板 “无”或 “有”

系统参数 挡板延迟 00:00～99:99(分:秒) 镀膜方式 “单层”、“多层” 控制方式 “手动”、“自动” 启动延迟 00:00～99:99(分:秒) 　 输出控制能力 源挡板 4个 探头挡板 4个 　 监控能力 源 4个 探头数量 4个 通信 通讯接口 标配RS-232串行口 Windows软件 随机附带 　 其它 供电要求 220V（±5%），50Hz， 功率<30W 工作温度 0℃～50℃ 仪器尺寸 112 x 480x360（高x宽x 深），可用于19’标准工业 机架 仪器重量 5.0Kg